학력
2012.3~2016.2 공학박사 : 서울과학기술대학교 에너지환경대학원 신에너지공학과
2000.3~2007.2 공학사 : 인하대학교 화학공학
주요 경력
2016.7 ~ 현재 : 서울과학기술대학교 에너지환경대학원 신에너지공학과 (초빙부교수)
2008.7 ~ 현재 : 전략물자관리원 전략기술팀 (선임연구원)
2007.2 ~ 2008.7 : 제일모직주식회사 종합연구원 전자재료연구소 (연구원)
2006.10 ~ 2007.2 : 한국환경자원공사 (사원)
연구 분야
바이오연료전지, 센서 및 레독스플로우배터리 등 전기화학공학분야
담당 교과목
전기화학공학 관련 교과목
주요논문 및 저서
Chung, Y., Ahn, Y., Christwardana, M., Kim H. & Kwon, Y. Development of glucose oxidase-based biocatalyst adopting both physical entrapment and crosslinking and its use in biofuel cell. Nanoscale. 2016, 8(17).
Chung, Y., Hyun, K. H., & Kwon, Y. Fabrication of a biofuel cell improved by the π-conjugated electron pathway effect induced from a new enzyme catalyst employing terephthalaldehyde. Nanoscale. 2016, 8(2).
Chung, Y., & Kwon, Y. A Study on Performance Improvement of Glucose Sensor Adopting a Catalyst Using New Cross Liker. Korean Chem. Eng. Res., 2015, 53(6).
Chung, Y., & Kwon, Y. A 대북 바이오가스플랜트 지원의 제재 가능성에 대한 기술적 평가(Technical Assessment of Possibility sanction for Assistance to DPRK.). J. Ene. Engg., 2015, 24(4).
Chung, Y., Hyun, K. H,, Han, S. W., Hong, M., Chun, S. K., Koh, W., & Kwon, Y. 글루코스산화효소와 금나노로드 입자의 다층막으로 구성된 촉매를 이용하여 측정한 글루코스 센싱에 대한 연구(A Study on Glucose Sensing Measured by Catalyst Containing Multiple Layers of Glucose Oxidase and Gold Nano Rod). Trans. of Korean Hydrogen and New Energy Society, 2015, 26(2).
특허
Resist underlayer composition and process of producing intergrated circuit devices using the same. US9140986, 2015.9
Silicon based hardmask composition(si-soh; si-based spin-on hardmask) and process of producing semiconductor intergrated circuit device using the same. US8524851, 2013. 9
Method of manufacturing semiconductor device US8357576, 2013.1
레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 반도체 집적회로 디바이스의 제조방법(Resist underlayer composition and Process of Producing Integrated Circuit Devices Using the Same). KOR1013546370000, 2014.1
레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 반도체 집적회로 디바이스의 제조방법(Resist underlayer composition and Process of Producing Integrated Circuit Devices Using the Same). KOR1013447950000, 2013.12
레지스트 하층막용 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 반도체 집적회로 디바이스의 제조방법(Hardmask Composition Coated under Photoresist and Process of Producing Integrated Circuit Devices Using thereof). KOR1012662900000, 2013.5
실리콘계 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 반도체집적회로 디바이스의 제조방법(SILICON-BASED HARDMASK COMPOSITION(Si-SOH; Si-based Spin-On Hardmask) AND PROCESS OF PRODUCING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE USING THE SAME). KOR1009306720000, 2009.12